納米二氧化硅拋光粉
納米二氧化硅拋光粉產品概述:二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石
全國服務熱線:
18167136000納米二氧化硅拋光粉產品概述:二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石
全國服務熱線:
18167136000納米二氧化硅拋光粉
產品概述:
二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術指標:
型號 | 外觀 | 粒徑 nm | 含量 % | 產品特性及應用 |
HN-SP20F | 白色粉末 | 20 | 99.8 | 精細拋光,寶石拋光 |
HN-SP50F | 白色粉末 | 50 | 99.5 | 精細拋光,寶石拋光 |
HN-SP100 | 白色粉末 | 100 | 99.5 | 精細拋光,寶石拋光 |